什么是光刻机

时间:2024-09-20 18:14:45编辑:小淘

光刻机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动:

1、手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;

2、半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐;

3、自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

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